@misc{oai:repo.qst.go.jp:00071478,
 author = {今井, 耕平 and 中西, 郁夫 and 松本, 謙一郎 and 中村, 朝夫 and 福原, 潔 and 今井 耕平 and 中西 郁夫 and 松本 謙一郎},
 month = {Aug},
 note = {レスベラトロールやケルセチン、カテキンといった抗酸化物質は、優れた活性酸素種消去活性を示し、活性酸素種に由来する種々の病気および老化の予防効果があるとして注目されている。我々は、抗酸化物質のラジカル消去反応機構を明らかにするとともに、ラジカル消去活性の増強を目的とした種々の抗酸化物質誘導体を開発した。レスベラトロールやカテキンのラジカル消去反応は一電子酸化されたラジカルカチオン中間体を経由して進行する。このことから、ラジカルカチオン中間体を安定化することで、ラジカル消去活性を増強できると予想し、ラジカルカチオン化されるフェニル基に電子供与基を導入した誘導体を開発した。カテキンにイソプロピル基を導入した平面型カテキンやレスベラトロールにメチル基を導入したメチルレスベラトロールは、ラジカル消去活性が顕著に増強された。特に、メチルレスベラトロールでは、メチル基の電子供与効果だけでなく、超共役の効果によってもラジカル消去活性が飛躍的に増強された。今回、レスベラトロールよりも高いラジカル消去活性を示すカテキンにメチル基を導入し、電子供与と超共役の2つの効果によってラジカル消去活性の増強を目指し、誘導化を行った。, フリーラジカルサマースクール in 館山 2014},
 title = {ラジカル消去活性の増強を目的としたジメチルカテキン誘導体の合成},
 year = {2014}
}