@misc{oai:repo.qst.go.jp:00071433,
 author = {中西, 郁夫 and 川島, 知憲 and 大久保, 敬 and 和氣, 司 and 宇都, 義浩 and 鎌田, 正 and 小澤, 俊彦 and 松本, 謙一郎 and 福住, 俊一 and 中西 郁夫 and 川島 知憲 and 大久保 敬 and 和氣 司 and 鎌田 正 and 小澤 俊彦 and 松本 謙一郎},
 month = {Mar},
 note = {【目的】マグネシウムイオン(Mg(2+))やスカンジウムイオン(Sc(3+))などのレドックス不活性な金属イオンはルイス酸として働き、電子移動反応を促進することが知られている(Fukuzumi, S., Ohkubo, K., Coord. Chem. Rev., 254, 372 (2010))。本研究では、活性酸素種のモデルとして頻用されている2,2-ジフェニル-1-ピクリルヒドラジル(DPPH)ラジカルが、アセトニトリル(MeCN)中、Sc(3+)により効率良く消去されることを見いだしたので、その反応機構について検討した。
【実験・結果および考察】嫌気性条件下、25℃で、DPPHラジカルのMeCN溶液にSc(OTf)(3) (OTf = OSO(2)CF(3))を加えると、DPPHラジカルに由来する519 nmの吸収が減少するとともに380 nmの吸収が増大した。380 nmの吸収はDPPHラジカルを定電位電解により一電子酸化することで得られるDPPH(+)の吸収と良く一致した。519 nmおよび380 nmの吸光度の経時変化は、DPPHラジカルの濃度に対して二次の依存性を示した。以上の結果から、DPPHラジカルはSc(3+)の存在下で電子移動不均化を起こし、DPPH(+)とDPPH(-)が生成したことが明らかとなった。Sc(3+)はDPPH(-)を安定化することにより、この不均化反応を促進したと考えられる(Nakanishi, I., Kawashima, T., Ohkubo, K., Waki, T., Uto, Y., Kamada, T., Ozawa, T., Matsumoto, K., Fukuzumi, S., Chem. Commun., 50, 814 (2014))。, 日本薬学会第134年会},
 title = {レドックス不活性な金属イオンによる活性酸素モデルラジカルの消去機構},
 year = {2014}
}