@misc{oai:repo.qst.go.jp:00066881,
 author = {大久保, 猛 and 石井, 保行 and 大久保 猛 and 石井 保行},
 month = {Aug},
 note = {工場の生産現場や大学の実験室等への普及を目指して開発している小型イオンマイクロビーム装置において、高分解能化のためサブミクロンビームの形成を可能にするには、イオン温度が低く色収差を小さく抑えることができる負イオンビームの利用が有利である。本装置構成を大幅に変更せず負イオンビーム集束の研究を行うには、レンズ系（即ち電極系）の電源等を負電圧用に変更するのが簡便であるが、本レンズ系は正電圧の印加に対して強い放電耐性を持つ構造である。そこで、負電圧に対する放電耐性を評価するために負電荷ビームをレンズ系に通す実験を行った結果、このビームを集束点まで安定に輸送できたことから、本レンズ系が負電圧に対して十分な放電耐性を有することが確認できた。今後、負イオンマイクロビームを形成する予定である。, CAARI2018},
 title = {Preliminary formation of a negative ion microbeam in a compact ion microbeam system},
 year = {2018}
}