@misc{oai:repo.qst.go.jp:00066731,
 author = {太田, 雅人 and Morace, Alessio and Kumar, Rajesh and 上林, 祥平 and 江頭, 俊輔 and 金崎, 真聡 and 福田, 祐仁 and 坂和, 洋一 and 福田 祐仁},
 month = {Mar},
 note = {高強度LFEXレーザーの1ビームを臨界密程度のプラズマに照射することにより無衝突静電衝撃波を生成し,それによるプロトン加速を行った.実験では,厚さ0.7 umのCH薄膜ターゲットにイオン化用レーザーとして激光XII号（GXII）レーザーの1ビームを照射して臨界密程度のプラズマを生成し,数ns以下の遅延時間の後に対向側（裏面）からLFEXレーザーを照射した.GXIIとLFEXの遅延時間を変える事によって,プロトン加速に最適なプラズマ密度とスケール長を生成した.生成されたプロトンは,CR-39とラジオクロミックフィルムによって検出した.講演では,実験の詳細を2次元粒子シミュレーションの結果と合わせて報告する., 日本物理学会第73回年次大会},
 title = {高強度レーザーLFEX を用いた無衝突静電衝撃波によるプロトン加速},
 year = {2018}
}