@misc{oai:repo.qst.go.jp:00066682,
 author = {佐々木, 明 and 石野, 雅彦 and 錦野, 将元 and 前川, 康成 and 佐々木 明 and 石野 雅彦 and 錦野 将元 and 前川 康成},
 month = {Mar},
 note = {EUVリソグラフィで重要な高感度、高解像度レジストの開発のために、メタルレジストの露光の特性をパーコレーションモデルで解析することを試みた。パターンの形成には閾値があること、なめらかなパターンを形成するためには閾値の３倍程度の照射線量が必要なことを示す結果得られた。, 第６５回応用物理学会春季学術講演会},
 title = {EUVリソグラフィにおけるレジスト露光過程の統計的性質のモデリング},
 year = {2018}
}