@misc{oai:repo.qst.go.jp:00066678,
 author = {米谷, 佳晃 and 中川, 洋 and 横谷, 明徳 and 甲斐, 健師 and 米谷 佳晃 and 横谷 明徳},
 month = {Mar},
 note = {DNA の放射線損傷は、溶媒分子の振舞いと密接に関係している。X 線やγ 線が、細胞に照射されると、水分子の分解により、OH ラジカルなど反応性の高い分子種が生成される。これらの分子種が、細胞内の水の中を移動し、DNA と反応することで、DNA 損傷が生じると考えられている。しかし、溶媒分子の振舞いと損傷生成の関係については、多くの部分が未解明である。本研究では、分子動力学計算により、DNA を取囲む水とラジカルの挙動を解析し、それらがDNA の損傷生成とどのように関係しているのかを検証する。分子動力学計算から、DNA 周囲の溶媒分子の空間分布を計算した。得られた分布をもとに、各サイトの溶媒アクセシビリティーを評価し、DNA 損傷生成との関係について言及する。, 日本物理学会 第73回年次大会(2018年)},
 title = {DNAの溶媒和構造と放射線損傷サイトの関係：分子動力学シミュレーション解析},
 year = {2018}
}