@misc{oai:repo.qst.go.jp:00066406,
 author = {Satoh, Takahiro and Kada, Wataru and Ohkubo, Takeru and Yamada, Naoto and Yokoyama, Akihito and Kamiya, Tomihiro and Ishii, Yasuyuki and 佐藤 隆博 and 大久保 猛 and 山田 尚人 and 横山 彰人 and 石井 保行},
 month = {Aug},
 note = {直径1～数μmの3MeVのH+マイクロビームを試料に照射することで励起するX線を測定する微量元素マッピングシステム（マイクロPIXE分析システム) の利用を推進している。高崎量子応用研究所で開発したこのシステムでは、マイクロビームを、有機膜を通して大気中に取り出すことで、生体試料等の含水試料への照射を可能とした。さらに、真空中の照射では、トモグラフィ技術を取り入れることで、非破壊で三次元マッピングができる技術を開発し、直径数10μmの吸着材の中に残存する金属元素の分布から溶離率の改善につながる知見を得た。加えて、本システムと併用できるイオンビーム誘起発光分析システムの開発を行い、前者のみでは困難であった化合物の推定も可能になりつつある。これらの技術により、マイクロPIXE分析システムのさらなる応用の拡大が期待できる。, IUMRS-ICAM 2017},
 title = {Development and Application of an Elemental Mapping System using an Ion MicrobeamDevelopment and Application of an Elemental Mapping System using an Ion Microbeam},
 year = {2017}
}