@misc{oai:repo.qst.go.jp:00066155,
 author = {赤木, 浩 and 和田, 資子 and 乙部, 智仁 and 板倉, 隆二 and 赤木 浩 and 和田 資子 and 乙部 智仁 and 板倉 隆二},
 month = {Sep},
 note = {フェムト秒レーザーでアブレーションする石英表面に生成した励起状態のダイナミクスを、VUVパルス（中心波長160nm、時間幅13fs）の反射分光によって追跡した。フェムト秒パルス（795nm、80fs）をXeガスジェット中に集光して照射することで高調波を発生させ、160nmの多層膜ミラーで5次高調波のみを反射した。透過した795nmのフェムト秒パルスを石英固体に集光・照射してアブレーションを起こし、その集光点にVUV光を遅延時間を調整した上で照射し、反射光を分光計測した。VUV反射率は、プラズマ生成によって100fs以下の立ち上がりで上昇した後、800fs以上持続し続ける。, 第10回分子科学討論会},
 title = {時間分解VUV反射分光による石英表面における強励起ダイナミクス},
 year = {2016}
}