@misc{oai:repo.qst.go.jp:00065960,
 author = {大久保, 猛 and 石井, 保行 and 大久保 猛 and 石井 保行},
 month = {Sep},
 note = {実験室に設置可能な数百keV級の小型イオンマイクロビーム装置を開発しており、これまでに120keVでビーム径5.8μmを得た。本装置では、加速と集束を同時に行う加速レンズ系を採用しており、その集束メカニズムのために、より低いエネルギーのビームをレンズ系に入射することで縮小率を向上できる。そこで、更にビーム径を縮小することを目的に、イオン源のビーム引出電場の強さを変えないことで入射ビームの物点径と発散角を保ったままビームエネルギーを低めるために、イオン源のアノード電極と引出電極の間の距離をこれまでの３分の２へと短くした。その結果、ビーム径が1.8μmへと縮小した。, 日本原子力学会2016年秋の大会},
 title = {小型イオンマイクロビーム装置の引出条件の改良によるビーム径縮小},
 year = {2016}
}