@misc{oai:repo.qst.go.jp:00065926,
 author = {福田, 健吾 and 藤村, 勇貴 and 山本, 優輝 and 田中, 元彬 and 岡本, 芳浩 and 千星, 聡 and 堀, 史説 and 松井, 利之 and 齋藤, 勇一 and 岩瀬, 彰宏 and 齋藤 勇一},
 month = {Jul},
 note = {透明酸化物絶縁体のｽﾋﾟﾝﾄﾛﾆｸｽ素子などの機能性材料への応用を目指して、SiO2及びAl2O3へのイオン注入による磁性、光吸収特性の変化を調べた。
　その結果、Feイオン注入により、SiO2とAl2O3とも常磁性が強磁性に変化し、照射量の増加とともにその強度も増加した。エックス線解析によりFeイオンが集積し金属として小さなBCC構造を形成したためであることが分かった。また、Agイオン注入によりAl2O3にAgナノ粒子の表面プラズモン共鳴に起因する410nmの光吸収帯が現れ、照射量とともに強度も増加した。
　これらより、イオン注入により、透明酸化物絶縁体の磁性や光学特性の制御が可能であることが示された。, 27th International Conference on Atomic Collisions in Solids (ICACS-27)},
 title = {Clustering of metal atoms by high energy  ion implantation　in oxides},
 year = {2016}
}