@misc{oai:repo.qst.go.jp:00064748,
 author = {高田, 真志 and その他 and 高田 真志},
 month = {Sep},
 note = {１．緒言
　大出力かつ加速エネルギー数MeVイオンの照射する場合、低いビーム電流状態で、蛍光板、シンチレーターなどを使い、ビーム位置の調整を行い、その後、ビーム形状に変化が無いと仮定して、ビーム強度を上げての照射が行われている。照射中は、ビーム形状をモニターしないで照射が行われているのが実状である。中性子照射実験、BNCT、RI製造などでは、照射中のビーム形状をモニター出来た方が、安定供給の観点から望ましい。そこで、本研究では、数10-400マイクロＡのビーム照射中に、ターゲット上でのビームプロファイルをモニターできる手法を開発した。
２．装置と実験
　3MeV陽子線を400マイクロＡまで照射可能な実験を、放医研にある中性子影響実験用加速器(NASBEE)を用いて行った。我々のビームモニターは、ビームが物質に付与した個数、エネルギーを計測するものでなく、ビームがターゲットに入射した時に発生する熱を２次元熱カメラで計測し、間接的に計測するものである。本モニターは、真空中でも大気中でも使用でき、ビームを止めることなく、ビーム強度1mA以上も計測可能であるため、照射時のビーム強度でビームをモニターでき、検出器などをビーム軸上に挿入しないため、照射実験を実施しながらもモニターすることができ、ビームの安定をモニターできる。モニターは１秒間でビーム照射開始と停止をモニターでき、暗室などを特段設ける必要が無いメリットがある。
３．結果・考察
　モニターしたビーム形状を下図に示す。中心部にある領域がビームである。このように、ビーム形状を直接、モニターすることができた。ビーム電流と計測温度間の直線相関と、プロファイル寸法の校正結果を用いることで、ビームプロファイルモニターを得ることもできる。
　本実験は、数MeVのタンデム加速器を用いたビーム計測であるが、BNCT中性子ターゲット、ＲＩ製造、陽子線治療、電子線照射などあらゆる場面で、必要とされるビームプロファイルをリアルタイムでモニターすることが可能である。, 日本原子力学会　2012年秋の大会},
 title = {数ＭｅＶ荷電粒子をリアルタイム大強度で非破壊的に計測可能なビームプロファイル手法の開発},
 year = {2012}
}