@misc{oai:repo.qst.go.jp:00060460,
 author = {福原, 潔 and 中西, 郁夫 and 小澤, 俊彦 and 伊古田, 暢夫 and 宮田, 直樹 and 奥田, 晴宏 and Ｈｅｃｈｔ, Ｓｉｄｎｙ Ｍ． and 中西 郁夫 and 小澤 俊彦 and 伊古田 暢夫},
 month = {Jun},
 note = {第26回日本フリーラジカル学会学術集会},
 title = {N-オキシドの化学−嫌気性条件下でのヒドロキシルラジカルの生成とDNA切断活性−},
 year = {2004}
}