@inproceedings{oai:repo.qst.go.jp:00054699,
 author = {浅見, 逸夫 and 鈴木, 良地 and 長谷川, 徹 and 辻, 孝子 and 大野, 徹 and 長谷, 純宏 and 野澤, 樹 and 長谷 純宏 and 野澤 樹},
 book = {愛知県農業総合試験場研究報告第48号},
 month = {Mar},
 note = {新規性の高いキク品種育成のため、丁字状のかがり花弁を持つキク系統への炭素イオンビーム照射を行い、様々な突然変異個体を得た。花型変異の発生率は1Gy照射で1.6％、2Gy照射で4.8％、花弁型変異の発生率は1Gy照射で2.3％、2Gy照射で6.2％であった。花色変異の発生率は1Gy照射で5.4％、2Gy照射で10.4％であった。花型と花弁型が変異した4系統を選抜し、それらの一層の改良のため、2回目の炭素イオンビーム照射を行い、39本の突然変異個体を得た。最終的に新規性が高い花型・花弁型・花色を持つ10系統を選抜した。},
 pages = {1--8},
 title = {イオンビーム照射による新規花弁型キク突然変異系統の作出},
 volume = {48},
 year = {2017}
}