@inproceedings{oai:repo.qst.go.jp:00054151,
 author = {石川, 剛弘 and 磯, 浩之 and 及川, 将一 and 小西, 輝昭 and 北村, 尚 and 樋口, 有一 and 酢屋, 徳啓 and 濱野, 毅 and 今関, 等 and 石川 剛弘 and 及川 将一 and 小西 輝昭 and 北村 尚 and 酢屋 徳啓 and 濱野 毅 and 今関 等},
 book = {技術と安全の報告会 ; 共用施設(PASTA&SPICE)共同研究成果報告会 : 報告集},
 issue = {NIRS-M-223},
 month = {Jul},
 note = {イオンビームを用いた元素分析法の一つであるPIXE分析法は、多元素を同時に分析することができることから、定性面の分析において数多く研究に用いられているが、近年では検出感度の向上と定量化が強く望まれるようになった。そのため我々は、二次元元素マップの取得が可能なマイクロビームスキャニングPIXE分析ラインにおいても定量化のための技術開発を進めることにした。定量化において、試料に対するイオンビーム照射量の正確な測定が必須であることから、電流モニタの開発から着手した。現在、予備実験中であるが、その途中経過を報告する。},
 pages = {13--15},
 title = {Micro scanning PIXEにおける照射量測定システムの開発 その1},
 volume = {第4回　;　第2回},
 year = {2009}
}