@inproceedings{oai:repo.qst.go.jp:00054144,
 author = {樋口, 有一 and 小西, 輝昭 and 及川, 将一 and 磯, 浩之 and 石川, 剛弘 and 今関, 等 and 小西 輝昭 and 及川 将一 and 石川 剛弘 and 今関 等},
 book = {技術と安全の報告会 ; 共用施設(PASTA&SPICE)共同研究成果報告会 : 報告集},
 issue = {NIRS-M-223},
 month = {Jul},
 note = {マイクロビーム細胞照射装置SPICEは、3.4[MeV]に加速されたプロトンビームを直径数ミクロンにまで集束し、哺乳類細胞の細胞核に
任意の数を照射することができる。 SPICEは画像から細胞の位置情報を抽出し、繰り返し精度40[nm]のステージで座標を合わせ
照射しているが必ずしも座標位置にビームが照射されるわけではなくビームサイズ＋ステージの繰り返し精度に誤差が生まれる。
よって照射精度をより向上させるためにはビームサイズを小さくする必要がある。ビーム径はビームエンド膜の素材、厚さ、空気層の距離などによって変化する。本報告会では、 Si3N4の厚さの違いによるビームサイズを計算値と実測値の比較及び空気層によるビーム径の
変化の比較について報告する。},
 pages = {63--63},
 title = {SPICEにおけるビームエンド膜の最適化},
 volume = {第4回　;　第2回},
 year = {2009}
}