@article{oai:repo.qst.go.jp:00048403,
 author = {石坂, 知久 and 百合, 庸介 and 上松, 敬 and 湯山, 貴裕 and 清藤, 一 and 奥村, 進 and 石坂 知久 and 百合 庸介 and 上松 敬 and 湯山 貴裕 and 清藤 一 and 奥村 進},
 issue = {7},
 journal = {RADIOISOTOPES},
 month = {Jul},
 note = {ガフクロミックフィルム（Gafchromic film, Ashland製）は，主に医療分野でX線・γ 線の線量分布測定に使用され，イオンビームの強度分布測定にも応用されている。高線量用モデルHD-V2は，感受層が薄く，表面保護層がないため，飛程が短いイオンビームの測定にも適用可能である。しかし，その線量応答は非線形であり，イオン種やエネルギーによる特性の違いが不明であることから，ビーム強度分布測定に利用するためにはその都度，吸光度のフルエンス応答曲線を取得する必要があった。そこで，各種イオンビームの応答曲線が60Coγ線の線量応答曲線に類似していることに着目し，ビーム強度分布の簡便な測定を可能とすることを目的として，γ線の線量応答曲線から直接イオンビームの相対強度分布を求める方法を考案し，実証実験を行った。60Coγ線といくつかのイオンビーム（線エネルギー付与：5.5 keV/μm～11 MeV/μm）において，フラットベッドスキャナES-10000Gを用いた測定の結果，イオン照射応答はγ線照射応答曲線の形状に一致し，フィッティングの良い吸光度範囲の上限はR色成分で0.7，G色成分で0.5程度であることを明らかにした。これにより，イオン種やエネルギーごとのフルエンス応答曲線を取得することが不要となり，各種イオンビームの簡便な相対強度分布測定が可能となった。},
 pages = {251--258},
 title = {ガフクロミックフィルムHD-V2のγ線応答曲線を用いたイオンビームの相対強度分布測定法},
 volume = {66},
 year = {2017}
}