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  1. 学会発表・講演等
  2. ポスター発表

ガンマ線照射が4H-SiC JFETのリーク電流増加に及ぼす影響

https://repo.qst.go.jp/records/2002422
https://repo.qst.go.jp/records/2002422
70422cc7-8149-4b9b-8d26-ac3ba641020a
アイテムタイプ 会議発表用資料 / Presentation(1)
公開日 2025-11-21
タイトル
タイトル ガンマ線照射が4H-SiC JFETのリーク電流増加に及ぼす影響
言語 ja
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6670
資源タイプ conference poster
著者 武山 昭憲

× 武山 昭憲

武山 昭憲

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牧野 高紘

× 牧野 高紘

牧野 高紘

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田中 保宣

× 田中 保宣

田中 保宣

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黒木 伸一郎

× 黒木 伸一郎

黒木 伸一郎

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大島 武

× 大島 武

大島 武

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抄録
内容記述 炭化ケイ素(SiC)は熱や放射線による電子励起が起こりにくく、高温・放射線環境で動作する集積回路の材料として研究されている。SiC接合型電界効果トランジスタ(SiC JFET)はガンマ線照射で帯電しやすいゲート酸化膜を持たず、高線量向け素子として期待されている。これまでにSiC JFETを数MGy(メガグレイ)高線量ガンマ線に暴露するとリーク電流が増加し、照射後の時間経過とともに減少することを確かめたが、今回、リーク電流にヒステリシスが現れ、電圧掃引速度で形が変わることがわかった。このことは、リーク電流の増加に遅い準位が関与することを示唆している。
会議概要(会議名, 開催地, 会期, 主催者等)
内容記述 先進パワー半導体分科会 第12回講演会
発表年月日
日付 2025-11-20
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Ver.1 2026-01-19 00:58:03.822184
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