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アイテム
軟X線多層膜を付加し1～2keV領域で高回折効率を呈する平面結像型 不等間隔溝球面ラミナー型回折格子の開発
https://repo.qst.go.jp/records/2002162
https://repo.qst.go.jp/records/200216242ddb25e-7aac-4ace-9e96-8597a84c4179
| アイテムタイプ | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||||||||||
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| 公開日 | 2025-07-11 | |||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||
| タイトル | 軟X線多層膜を付加し1～2keV領域で高回折効率を呈する平面結像型 不等間隔溝球面ラミナー型回折格子の開発 | |||||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||||
| 言語 | ||||||||||||||
| 言語 | jpn | |||||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||||||||||
| 資源タイプ | conference presentation | |||||||||||||
| 著者 |
小池 雅人
× 小池 雅人
× 羽多野 忠
× ピロジコフ アレキサンダー
× 寺内 正己
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| 抄録 | ||||||||||||||
| 内容記述 | 1～2keV領域で高回折効率を呈する軟X線多層膜を付加した平面結像型不等間隔溝球面ラミナー型回折格子を前回報告[1]した設計に従い製作し，回折効率を評価したので報告する。刻線密度1/σを2400 本/mmと仮定した設計の結果，最適な溝構造は，溝深さhが2.65 nm，デュティ比a /σが0.46で，入射角 αは87.50°となった。SiO2基板上にラミナー型回折格子溝を刻線した表面上に不等周期のW/B4C多層膜を積層し，更にその上にAu膜を積層することとした。W層の膜厚, dHi, i = 1~6, は全て 2.6 nm, B4Cの膜厚 dLi，i = 1~4，は 3.0 nm, dL5 とdL6はそれぞれ10.3 nm, 4.7 nmである。また，最上層のAu膜の膜厚，dH7，は 4.0 nm である。この膜構造により，低エネルギー光は最上層のAu膜で, 高エネルギー光は多層膜で主に回折されることになる。発表では放射光を用いて測定した回折効率と計算で得た回折効率のエネルギー依存性の比較を示す。その結果から製作した多層膜回折格子の dH7の値が設計値より1 nm 強厚いため、低エネルギー側で効率が比較的高く、高エネルギー側で低下していると考えられる。 | |||||||||||||
| 会議概要（会議名, 開催地, 会期, 主催者等） | ||||||||||||||
| 内容記述 | 公益社団法人応用物理学会 2025年（令和7年）秋季学術講演会 | |||||||||||||
| 発表年月日 | ||||||||||||||
| 日付 | 2025-09-10 | |||||||||||||
