WEKO3
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Ni イオン制御照射による SiO2 アモルファス中でのナノ粒子合成と特性
https://repo.qst.go.jp/records/78792
https://repo.qst.go.jp/records/78792c3648526-0a88-4aed-a90d-1820c8424bf2
Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
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公開日 | 2020-01-30 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Ni イオン制御照射による SiO2 アモルファス中でのナノ粒子合成と特性 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
資源タイプ | conference object | |||||
アクセス権 | ||||||
アクセス権 | metadata only access | |||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
著者 |
山田, 智子
× 山田, 智子× 鷹野, 陽弘× 杉田, 健人× 岩瀬, 彰宏× 前川, 雅樹× 河裾, 厚男× 堀, 史説× Maekawa, Masaki× Kawasuso, Atsuo |
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抄録 | ||||||
内容記述タイプ | Abstract | |||||
内容記述 | 固体中へNiイオンを照射し,ナノ粒子を合成した.照射イオンのエネルギーと照射量をパラメータとして合成するナノ粒子の構造や形態などの制御を試みた.それぞれの条件でのナノ粒子の光吸収などについて評価した. | |||||
会議概要(会議名, 開催地, 会期, 主催者等) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 日本金属学会 秋期大会 | |||||
発表年月日 | ||||||
日付 | 2019-11-13 | |||||
日付タイプ | Issued |